В России разработают лазеры для производства чипов для установок Nikon и ASML

Минпромторг заказал разработку лазеров и фотоприемников, применяемых в производстве интегральных схем по топологии до 65 нм. Такое оборудование отвечает за точное нанесение рисунка на поверхности материала. Его аналог производится в США и используется в установках Nicon и ASML.

Российские лазеры

Минпромторг заказал разработку и освоение производства
гелий-неоновых лазеров и фотоприемников для систем позиционирования
оборудования, применяемого в производстве интегральных схем (ИС) с
топологическими нормами до 65 нм. Соответствующий тендер был опубликован на портале госзакупок в ноябре 2024 г.

Разрабатываемый комплект предназначен для замены лазеров
модели 5517C и фотоприемников моделей E1709A и 10780F производства американской
фирмы Keysight в зарубежном оборудовании, а также в действующем и
разрабатываемом отечественном оборудовании.

Комплект будет установлен в действующие литографические
степперы и сканеры Nikon серий SF 204 – 206, i-11, i-12, ASML серии PAS-5500, а
также генераторы изображений топологических структур на фотошаблонах.

Помимо этого, комплект заменят в оптических установках контроля координат топологических элементов и критических
размеров структур на фотошаблонах. И еще он будет стоять в установках контроля дефектности на полупроводниковых пластинах AMAT
Compass, лазерного устранения недопустимых дефектов на фотошаблонах и установки
электронно-лучевой литографии, отмечается в техзадании.

Комплектующие изделия и материалы должны быть отечественного
производства и обеспечивать отсутствие критической зависимости от иностранных
производителей. Работы выполняются в рамках госпрограммы «Научно-технологическое
развитие Российской Федерации».

«Комплект разрабатываемых лазеров с фотоприемником является неотъемлемой частью систем позиционирования в современных установках, — пояснил CNews представитель Минпромторга. — Без таких систем невозможно достичь требуемых точностей в производстве электроники».

Для чего установка

Разрабатываемые лазеры достаточно сильно отличаются от «рабочих» лазеров, которые используются в литографическом оборудовании. В качестве рабочего лазера в литографии обычно используются эксимерные лазеры с длиной волны 355, 248 или 193 нанометра, в этой работе планируется разработке гелий-неонового лазера на длине волны 632 нанометра, отметили в министерстве.

«Разрабатываемые комплекты лазеров и фотоприемников
предназначены для работы в интерферометрических системах позиционирования в
современном оборудовании для производства электронных компонент, — рассказал
CNews руководитель департамента электронного машиностроения международного
научно-технологического центра (МНТЦ) МИЭТ Яков Петренко. — Такие системы нужны для того, чтобы с высокой
точностью позиционировать положение активных частей установки относительно
полупроводниковой пластины».

По словам Петренко, сейчас фактическим монополистом в таких
системах является компания Keysight. Соответственно речь идет о замещении ее
систем, как в эксплуатируемом иностранном оборудовании, так и в российских
разработках.

Освоение производства чипов

В ноябре CNews также писал, что Минпромторг выделил почти полмиллиарда на создание оборудования для настройки отечественных литографов. Оно должно быть создано из отечественных материалов и будет готово ко II кварталу 2027 г.

Как RobotMIA запустила более 400 роботов в облаке Selectel

Маркет

«Можно сказать, что Минпромторг планомерно ставит работы не
только по созданию самих установок, но и их ключевых компонентов, стремясь
повысить уровень локализации разработок», — заключил Яков Петренко.

Напомним, производство российского оборудования для выпуска
чипов с топологией 350 нм начнется в 2024 г., а 130 нм — в 2026 г. Такие амбициозные планы озвучил замглавы
Минпромторга Василий Шпак. Сейчас оборудование, которое создают белорусский
«Планар» и Зеленоградский нанотехнологический центр — фотолитограф (степпер)
для изготовления микросхем 350 нм, уже проходит тестирование.

Чипы с топологией 350-65 нм используются в
микроконтроллерах, силовой электронике, телекоммуникационных схемах,
автомобильной электронике и др. Это примерно 60% рынка, отметил замминистра.
Технология по мнению экспертов очень востребована в мире и будет еще
востребована долгое время, минимум 10 лет.

Напомним, что в России на конец 2023 г. освоена максимум
65-нанометровая технология из начала XXI века на оборудовании иностранного
производства. Современные литографические комплексы в стране пока не
производятся.